| 发明名称 | 多层反射镜和光刻设备 | ||
| 摘要 | 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。 | ||
| 申请公布号 | CN102047183B | 申请公布日期 | 2013.12.18 |
| 申请号 | CN200980120621.0 | 申请日期 | 2009.05.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | D·格卢什科夫;V·巴内尼;J·H·J·莫尔斯;L·A·斯基梅诺克;N·N·塞拉斯申科 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/24(2012.01)I;G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种多层反射镜，所述多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2‑8nm范围内的波长的辐射，所述多层反射镜具有交替层，所述交替层包括第一层和第二层，所述第一层和第二层是从U和B4C层,Th和B4C层,U和B9C层,Th和B9C层,U和B层,Th和B层,U化合物和B4C层,Th化合物和B4C层,U化合物和B9C层,Th化合物和B9C层,U化合物和B层,以及Th化合物和B层构成的组中选择的。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||