发明名称 一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法
摘要 本发明公开一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法,该镀膜方法依次包括喷涂UV底漆、镀制高金属质感不导电膜层和喷涂UV面漆三个步骤,其中,镀制高金属质感不导电膜层是以长×宽×厚=1009mm×124.7mm×8mm的硅铝合金为靶材料,采用磁控溅射镀膜技术,对待镀膜产品进行镀膜;本发明选择将连续磁控溅射镀膜技术应用到手机外壳和平板电脑外框等塑胶材料上,并采用硅铝合金为靶材料,磁控溅射溅射靶材是以原子的方式沉淀在基板上,膜层致密,牢固度好,镀膜后暴露在在空气中时间长膜层稳定。本发明镀膜方法得到的产品,金属质感超强,且耐候性好。本发明镀膜方法操作简单、无毒无污染,易于控制,适合工业化生产。
申请公布号 CN102366742B 申请公布日期 2013.12.18
申请号 CN201110292530.4 申请日期 2011.09.30
申请人 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华清光学科技有限公司 发明人 龚玉根;唐赵宝;张双文;谢守德
分类号 B05D5/00(2006.01)I;B05D5/12(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I;B05D3/00(2006.01)I;B05D3/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I 主分类号 B05D5/00(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 罗晓林;李志强
主权项 一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法,该镀膜方法依次包括喷涂UV底漆、镀制高金属质感不导电膜层和喷涂UV面漆三个步骤,其特征在于:所述镀制金属质感不导电膜层是以硅铝合金为靶材料,采用磁控溅射镀膜技术,对待镀膜产品进行镀膜;所述硅铝合金的规格为长×宽×厚= 1009 mm×124.7 mm×8mm;所述磁控溅射镀膜技术的各参数为:真空溅射室中真空压力抽到0.003Pa~0.005Pa后,冲入氩气为工作气体,冲入氩气后的真空恒压为0.4Pa~0.6Pa;流量计流量为150sccm~170sccm;溅射电源为中频电源;镀膜溅射功率为0.5KW~1.5KW;偏压调制为350V~400 V;基板载体工件架的移动线速为4Hz~6Hz;该镀膜方法具体包括如下步骤:步骤1  喷涂UV底漆在温度10℃~35℃、湿度 30%~80%的环境下,将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上,进行前处理擦试及自动化静电除尘;调整喷枪气压2 kg/cm2~3.5kg/cm2,把UV底漆自动化喷涂到产品待镀膜的面上,喷涂UV底漆的膜厚16 um~20um;然后将完成喷涂的产品放入烤箱烘烤,烘烤温度40℃~50℃,烘烤时间5 min~8min;最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化;步骤2  硅铝合金靶材磁控溅射镀膜本步骤所用的磁控溅射连续镀膜机上装有硅铝合金靶2个,硅铝合金靶的规格为长×宽×厚= 1009 mm×124.7 mm×8mm;在温度为17℃~27℃、湿度为45%~85%的条件下,在磁控溅射连续镀膜机中,采用磁控溅射连续镀膜技术对经过步骤1处理后的产品进行全自动溅射镀膜,该全自动溅射镀膜的参数如下:真空溅射室中真空压力抽到0.003Pa~0.005Pa后,冲入氩气为工作气体,冲入氩气后的真空恒压为0.4Pa~0.6Pa;流量计流量为150sccm~170sccm;溅射电源为中频电源;镀膜溅射功率为0.5KW~1.5KW;偏压调制为350V~400 V;基板载体工件架的移动线速为4Hz~6Hz;步骤3   喷涂UV面漆在温度5℃~35℃、湿度30%~80%的环境下,将步骤2处理后的产品放到二号涂装机的自动线上,用静电除尘枪进行手动除尘,再用离子静电除尘枪进行自动静电除尘;调整喷枪气压1.5 kg/cm2~3.5kg/cm2, 把UV面漆喷涂到产品镀膜的面上,膜厚为10um~14um;然后将完成喷涂的产品放入烤箱烘烤,烤箱温度为70℃~80℃,烘烤时间为5 min~8min;最后将烘烤完成的产品过UV炉进行固化,完成不连续高金属质感膜层的镀膜。
地址 523878 广东省东莞市长安镇上角管理区镇安路段