发明名称 等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块
摘要 等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块,主要解决现有附属前端模块存在的结构复杂、工作效率低及生产成本高的问题。它包括干燥腔,上盖板,加热灯及晶圆支架四个部分。其中上盖板和加热灯为标准件连接的一体机构,通过螺栓固定在干燥腔上,干燥腔作为前端模块与整体设备的接口连接。本实用新型能够在晶圆表面形成固态薄膜之前不仅可以除去晶圆胶带中的水分,而且又不影响正常的工艺流程,增加烘干晶圆工艺却不增加生产时间,相当于增加设备的功能却不降低生产效率。
申请公布号 CN203346475U 申请公布日期 2013.12.18
申请号 CN201320304672.2 申请日期 2013.05.29
申请人 沈阳拓荆科技有限公司 发明人 凌复华;吴凤丽;姜崴;朱超群;芦佳
分类号 C23C16/513(2006.01)I;C23C16/02(2006.01)I 主分类号 C23C16/513(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃
主权项 一种等离子体气相薄膜沉积设备的附属前端模块,包括干燥腔,其特征在于:它还包括上盖板,加热灯及晶圆支架,其中上盖板和加热灯为标准件连接的一体机构,通过螺栓固定在干燥腔上,上述晶圆支架是由晶圆支架垫块、晶圆支架底板及晶圆支架托板以标准件的形式进行组装而成,将组装完成的晶圆支架以标准件连接方式安装在干燥腔内,将干燥腔上盖板与加热灯组装,组装完成之后将组装完成的上盖板和加热灯以标准件连接方式安装在干燥腔的上方,各部分组件安装完成之后,干燥腔通过整体设备接口与多腔室的薄膜设备进行连接,安装在多腔室薄膜设备反应腔前一个流程的位置。
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