发明名称 光照射装置和具备它的光照射治疗/预防装置
摘要 本发明的光照射装置具备:对被照射体放射出放射光的光源;将光源所放射出的放射光向被照射体反射的反射构件;照射构件,其至少具有两个使从反射构件反射的放射光透过而照射到被照射体上的照射面。而且,光源从照射构件的照射面的一端侧放射出放射光,反射构件具备:将从光源放射出的放射光反射到照射构件的第一照射面的第一反射区域;将从光源放射而间接地到达的放射光反射到照射构件的第二照射面的第二反射区域;将放射光引导至第二反射区域的第三反射区域。由此,能够实现能够由一个光源照射多个照射面的光照射装置和光照射治疗/预防装置。
申请公布号 CN103458963A 申请公布日期 2013.12.18
申请号 CN201280015215.X 申请日期 2012.03.23
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 大條和宏;辻川信人;茂原和人
分类号 A61N5/06(2006.01)I;F21S2/00(2006.01)I;F21V8/00(2006.01)I 主分类号 A61N5/06(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 雒运朴
主权项 一种光照射装置,具备:光源,其对被照射体放射出放射光;反射构件,其使从所述光源放射出的所述放射光朝向所述被照射体反射;照射构件,其至少具有两个使从所述反射构件反射的所述放射光透过而照射到所述被照射体上的照射面,其中,所述光源从所述照射构件的所述照射面的一端侧放射出所述放射光,所述反射构件具有:将从所述光源放射出的所述放射光反射到所述照射构件的第一照射面的第一反射区域;将从所述光源放射而间接地到达的所述放射光反射到所述照射构件的第二照射面的第二反射区域;将所述放射光引导至所述第二反射区域的第三反射区域。
地址 日本大阪府