发明名称 高电源抑制比、低功耗基准电流及基准电压产生电路
摘要 本实用新型涉及一种高电源抑制比、低功耗基准电流和基准电压产生电路,其特征在于:包括PMOS管P1、P2和P3以及NMOS管N1、N2、N3、N4和N5,电源VDD连接所述N1的栅极、所述P1、P2和P3的源极以及所述N2和N3的漏极,所述P1的漏极连接所述P1、P2和P3的栅极以及所述N1的漏极,所述N1的源极连接所述N3的源极和所述N4的漏极,所述N4的栅极连接所述N5的栅极和漏极以及所述P2的漏极,所述N2的栅极连接所述N3的栅极和漏极,所述N2、N4和N5的源极连接电源GND,所述P3的漏极作为所述基准电流产生电路的输出端。本实用新型的电路功耗极低,面积小,电源抑制比高。
申请公布号 CN203350760U 申请公布日期 2013.12.18
申请号 CN201320290976.8 申请日期 2013.05.24
申请人 福州大学 发明人 胡炜;许育森;黄继伟;黄凤英;林安;安奇
分类号 G05F1/567(2006.01)I 主分类号 G05F1/567(2006.01)I
代理机构 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人 蔡学俊
主权项 一种高电源抑制比、低功耗基准电流产生电路,其特征在于:包括PMOS管P1、PMOS管P2和PMOS管P3以及NMOS管N1、NMOS管N2、NMOS管N3、NMOS管N4和NMOS管N5,电源VDD连接所述NMOS管N1的栅极、所述PMOS管P1、PMOS管P2和PMOS管P3的源极以及所述NMOS管N2和NMOS管N3的漏极,所述PMOS管P1的漏极连接所述PMOS管P1、PMOS管P2和PMOS管P3的栅极以及所述NMOS管N1的漏极,所述NMOS管N1的源极连接所述NMOS管N3的源极和所述NMOS管N4的漏极,所述NMOS管N4的栅极连接所述NMOS管N5的栅极和漏极以及所述PMOS管P2的漏极,所述NMOS管N2的栅极连接所述NMOS管N3的栅极和漏极,所述NMOS管N2、NMOS管N4和NMOS管N5的源极连接电源GND,所述PMOS管P3的漏极作为所述基准电流产生电路的输出端。
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