发明名称 |
掩膜板及隔垫物制作方法 |
摘要 |
本发明涉及显示技术领域,公开了一种掩膜板,所述掩膜板的透光区域包括若干通光孔排成的阵列,在所述掩膜板上对应相邻两个通光孔其中之一的区域形成有用于使通过的光线产生相位转移的相转移层。本发明还公开了一种隔垫物制作方法。利用本发明的掩膜板和隔垫物的制作方法,在制作高PPI的产品中的PS时,在掩膜板对应相邻两个通光孔其中之一的区域形成有相转移层,使通过的光线产生相位转移,这样通过相邻两个通光孔的光线在衍射区域(即对应掩膜板不透光区域)光强可以相互抵消,从而在制作PS时减轻甚至避免了相邻两个PS产生的粘连现象。 |
申请公布号 |
CN103454850A |
申请公布日期 |
2013.12.18 |
申请号 |
CN201310438678.3 |
申请日期 |
2013.09.24 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
陈小川;薛海林;车春城;姜文博;李月 |
分类号 |
G03F1/26(2012.01)I;G02F1/1339(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/26(2012.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种掩膜板,所述掩膜板的透光区域包括若干通光孔排成的阵列,其特征在于,在所述掩膜板上对应相邻两个通光孔其中之一的区域形成有用于使通过的光线产生相位转移的相转移层。 |
地址 |
100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |