发明名称 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
摘要 本发明实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可减少构图工艺次数,降低成本。该阵列基板包括像素区和阵列基板行驱动GOA区;像素区包括栅极、有源层的图案、源极和漏极、与漏极电连接的像素电极、位于源极上方与源极电连接且与像素电极同层的第二透明电极;栅绝缘层的图案设置在所述像素区和所述GOA区;GOA区包括与栅极同层的第一电极、与有源层的图案同层的有源层保留图案、与源极和漏极同层的第二电极,与像素电极同层的第一透明电极;其中,有源层保留图案和第二电极均包括露出第一电极的过孔;第一透明电极设置在第二电极上方、并与第二电极和第一电极均电连接。用于显示装置的制造。
申请公布号 CN103456746A 申请公布日期 2013.12.18
申请号 CN201310409592.8 申请日期 2013.09.10
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 张家祥;郭建
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L23/50(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板,包括像素区和GOA区;所述像素区包括设置在基板上的栅极、有源层的图案、源极和漏极、与所述漏极电连接的像素电极,栅绝缘层的图案设置在所述像素区和所述GOA区;其特征在于,还包括设置在所述GOA区与所述栅极同层的第一电极、与所述有源层的图案同层的有源层保留图案、与所述源极和漏极同层的第二电极,与所述像素电极同层的第一透明电极;其中,所述有源层保留图案和所述第二电极均包括露出所述第一电极的过孔;所述第一透明电极设置在所述第二电极上方、并与所述第二电极和所述第一电极均电连接;所述像素区还包括设置在所述源极上方并与所述像素电极同层的第二透明电极,所述第二透明电极与所述源极电连接。
地址 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号
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