一种低温等离子体处理装置及方法

摘要

本发明实施例公开了一种低温等离子体处理装置及方法，其中，一种等离子体处理装置包括：进行等离子体反应的反应室，所述反应室内侧设置有第一电极板和第二电极板，所述第一电极板与所述反应室外壳绝缘，所述第二电极板与所述反应室外壳一起接地；所述反应室设置有进气口，反应室与第一电极板之间设有气体分配器，工作气体通过所述进气口经过所述气体分配器进入所述反应室，所述反应室的两侧设置有反应后气体的出气口；至少两个射频源通过相应的射频源匹配网络，利用馈入元件与第一电极板上的射频馈入点连接，所述第一电极板上的射频馈入点至少为两个。采用本发明，减少驻波和趋肤效应，实现解耦，独立控制等离子体的密度和鞘层电压，简化了传统的射频馈入结构。

主权项

一种低温等离子体处理装置，其特征在于，包括：进行等离子体反应的反应室，所述反应室内侧设置有第一电极板和第二电极板，所述第一电极板与所述反应室外壳绝缘，所述第二电极板与所述反应室外壳一起接地；所述反应室设置有进气口，所述反应室与所述第一电极板之间设有气体分配器，工作气体通过所述进气口经过所述气体分配器进入所述反应室，所述反应室的两侧设置有反应后气体的出气口；至少两个射频源分别通过相应的射频源匹配网络，利用馈入元件与所述第一电极板上的射频馈入点连接，其中所述第一电极板上的射频馈入点至少为两个。