发明名称 |
具多个导电介入层的N型氮化镓层 |
摘要 |
一种竖直的基于GaN的蓝光LED,具有n型层,n型层包括多个导电介入层。n型层包括多个周期。n型层的每一周期包括氮化镓(GaN)子层及薄导电的氮化镓铝(AlGaN:Si)介入子层。在一个范例中,每一氮化镓子层的厚度基本超过100nm且小于1000nm,并且每一氮化镓铝介入子层的厚度小于25nm。整个n型层的厚度为至少2000nm。氮化镓铝介入子层对氮化镓子层提供压缩应变,从而避免破裂。在形成LED的外延层后,导电载体晶圆接合至该结构。然后去除硅基板。加入电极,并将该结构切割以形成完成的LED装置。因为氮化镓铝介入子层是导电的,所以整个n型层可保留作为完成的LED装置的一部分。 |
申请公布号 |
CN103460410A |
申请公布日期 |
2013.12.18 |
申请号 |
CN201280014827.7 |
申请日期 |
2012.05.25 |
申请人 |
东芝技术中心有限公司 |
发明人 |
陈振;付羿 |
分类号 |
H01L33/32(2006.01)I;H01L33/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/32(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈松涛;韩宏 |
主权项 |
一种发光二极管(LED)装置的制造方法,包括:(a)在硅基板之上形成n型层,其中所述n型层包括多个周期,所述n型层的每一周期包括氮化镓(GaN)子层以及掺杂硅的氮化镓铝(AlGaN:Si)介入子层;(b)在所述n型层之上形成有源层,其中所述有源层包含一定量的铟;以及(c)在所述有源层之上形成p型层,使得所述硅基板、所述n型层、所述有源层以及所述p型层形成第一结构。 |
地址 |
日本东京 |