| 发明名称 | 用于硅片单面处理实验的设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于硅片单面处理实验的设备，其包括：机台；反应槽和清洗槽，其排列设置于机台上；传送装置，其设置于机台上，同时依次穿过反应槽和清洗槽。本设备与大型设备相比，不需要苛刻的外围保障设施，造价成本低廉，消耗少，不需要复杂的自动控制，同时能够满足实验的要求，操控、调试简单，容易维护。并且，本设备由于只需要用于实验室的少量硅片的处理，其体积可以做到很小，不占用空间，搬运灵活，适合放在多种实验环境。最后，本设备可以根据不同工艺配制不同的反应溶液，适合多种单面处理工艺，包括单面膜层的去除，单面PN结的去除等等，灵活性强。 | ||
| 申请公布号 | CN203351565U | 申请公布日期 | 2013.12.18 |
| 申请号 | CN201320452899.1 | 申请日期 | 2013.07.29 |
| 申请人 | 中利腾晖光伏科技有限公司 | 发明人 | 王志刚;陆俊宇;汪燕玲;易辉;连维飞;魏青竹 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人 | 黄珩;彭益波 |
| 主权项 | 用于硅片单面处理实验的设备，其特征在于：包括：机台；反应槽和清洗槽，其排列设置于所述机台上；传送装置，其设置于所述机台上，同时依次穿过所述反应槽和清洗槽。 | ||
| 地址 | 215542 江苏省苏州市常熟市沙家浜镇常昆工业园区腾晖路1号 | ||