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发明名称
可异地加工的低辐射镀膜玻璃
摘要
本创作公开了一种可异地加工的低辐射镀膜玻璃,该低辐射镀膜玻璃包括一玻璃基底以及沉积在该玻璃基底表面的一功能膜层。该功能膜层包括:基层电介质层、第一阻隔层、功能银层、第二阻隔层和顶层电介质层。其中该基层电介质层和顶层电介质层之材质为Si3N4,该第一阻隔层之材质为AZO,该第二阻隔层之材质为ZrO。本创作通过采用AZO和ZrO材料先后淀积在该功能银层之两侧,使得该可异地加工的低辐射镀膜玻璃具有优异的产品耐加工性、抗氧化性,长期存储性能稳定等特性,适于异地加工,并拓展了市场。
申请公布号
TWM467667
申请公布日期
2013.12.11
申请号
TW102214895
申请日期
2013.08.08
申请人
台湾玻璃工业股份有限公司 台北市松山区南京东路3段261号11楼
发明人
林嘉宏
分类号
C03C17/36
主分类号
C03C17/36
代理机构
代理人
严国杰 台北市大同区承德路1段70之1号6楼
主权项
地址
台北市松山区南京东路3段261号11楼
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