定义光阻图案倒线规则之模型，及用以改善光阻图案倒线之光罩布局、半导体基板及方法

摘要

本发明提供一种定义光阻图案倒线规则之模型。光阻图案定义为非倒线，若d≧5a且c≧1.5b；或5a>d≧3a且c≧1.2b。其中，b为光罩布局第一线型图案之宽度，c为该光罩布局第二线型图案之宽度，且a及d为该第二线型图案与该等第一线型图案间之距离。本发明亦提供于光学近接修正中，用以改善光阻图案倒线之一光罩布局、一半导体基板及一方法。