发明名称 曝光条件之决定方法及曝光方法、曝光装置以及元件制造方法
摘要 在基板曝光前,在液体之各种条件下投影图案像,根据图案像之各投影状态,决定将图案像投影于基板上时之曝光条件。透过液体来投影图案像时,在按照液体状态之期望投影状态下能良好地将基板曝光。
申请公布号 TWI418944 申请公布日期 2013.12.11
申请号 TW094123485 申请日期 2005.07.12
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 藤原朋春
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本