发明名称 |
曝光条件之决定方法及曝光方法、曝光装置以及元件制造方法 |
摘要 |
在基板曝光前,在液体之各种条件下投影图案像,根据图案像之各投影状态,决定将图案像投影于基板上时之曝光条件。透过液体来投影图案像时,在按照液体状态之期望投影状态下能良好地将基板曝光。 |
申请公布号 |
TWI418944 |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
TW094123485 |
申请日期 |
2005.07.12 |
申请人 |
尼康股份有限公司 日本 |
发明人 |
藤原朋春 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |