控制特征轮廓之罩轮廓控制

摘要

本发明提供一种用于在基底上以及在聚合硬罩之下的介电层中蚀刻特征之方法。基底系置于电浆处理室内。将罩特征蚀刻到该聚合硬罩内，并且非故意地形成颈部。在介电质蚀刻步骤程序之前执行的电浆处理程序可选择性蚀刻掉该些颈部。因而在聚合硬罩内产生无颈部的特征。透过该无颈部之聚合硬罩而蚀刻到介电层下方的特征具有直的轮廓。