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发明名称
三族氮化物化合物半导体发光元件及其制造方法
摘要
一种三族氮化物化合物半导体发光元件包含:第一层,其为三族氮化物化合物半导体的单晶层,第一层形成在缓冲层上并包括穿透差排;第二层,其为形成在第一层上的三族氮化物化合物半导体,第二层包括凹洞及平坦部分,其中凹洞延续自穿透差排,并具有剖面是平行于基板且在第二层成长方向上延展;发光层,其包括对应到第二层平坦部分及凹洞的平坦部分及凹洞。发光层凹洞的铟浓度小于发光层平坦部分的铟浓度。其发光谱宽度与不存在凹洞的状况比较起来是延展的。
申请公布号
TWI419368
申请公布日期
2013.12.11
申请号
TW099107892
申请日期
2010.03.17
申请人
豊田合成股份有限公司 日本
发明人
斋藤义树;牛田泰久
分类号
H01L33/30
主分类号
H01L33/30
代理机构
代理人
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项
地址
日本
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