发明名称 补充铟电镀组成物的铟离子之方法
摘要 本发明揭露补充铟电镀组成物的铟离子之方法。于电镀期间使用某种弱酸之铟盐补充铟离子。该方法可与可溶性以及不溶性阳极一起使用。
申请公布号 TWI418668 申请公布日期 2013.12.11
申请号 TW098113127 申请日期 2009.04.21
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 美国 发明人 史萨克 伊德;史区华德 服利克斯J;格萨克 汤玛斯
分类号 C25D3/54;C25D3/56 主分类号 C25D3/54
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项
地址 美国
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