发明名称 |
补充铟电镀组成物的铟离子之方法 |
摘要 |
本发明揭露补充铟电镀组成物的铟离子之方法。于电镀期间使用某种弱酸之铟盐补充铟离子。该方法可与可溶性以及不溶性阳极一起使用。 |
申请公布号 |
TWI418668 |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
TW098113127 |
申请日期 |
2009.04.21 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
史萨克 伊德;史区华德 服利克斯J;格萨克 汤玛斯 |
分类号 |
C25D3/54;C25D3/56 |
主分类号 |
C25D3/54 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |