发明名称 |
图案化金属层制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种图案化金属层制作方法,系先形成一金属层于一第一基板之一具光热转换特性之转印牺牲层上。利用雷射转印技术将该金属层图案化转印至一第二基板上,以形成具预定图案之金属层于该第二基板上。本发明并藉由在被转印金属层与该第一基板间设置该转印牺牲层以吸收雷射光,进而保护该被转印金属层不吸光受热,而防止被氧化。 |
申请公布号 |
TWI419233 |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
TW097112790 |
申请日期 |
2008.04.09 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |
发明人 |
廖金龙;何家充 |
分类号 |
H01L21/321;H01L51/40;H01L29/786;B23K23/00 |
主分类号 |
H01L21/321 |
代理机构 |
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代理人 |
郭雨岚 台北市大安区仁爱路3段136号13楼;林发立 台北市大安区仁爱路3段136号13楼 |
主权项 |
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地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |