发明名称 薄膜电晶体及薄膜电晶体基板及此等之制造方法及使用此等之液晶显示装置及相关之装置与方法、以及喷镀靶及使用其成膜之透明导电膜及透明电极及相关之装置与方法
摘要 本发明系提供具备蚀刻所致残渣等几乎不会发生之透明导电膜之薄膜电晶体型基板,及其制造方法,及使用其薄膜电晶体型基板之液晶显示装置。;透明基板,与设置于该透明基板上之源电极,与设置于该透明基板上之汲电极,与设置于该透明基板上之透明像素电极,所成之薄膜电晶体型基板中,该透明像素电极,含有氧化铟作为主成分,进而,将含有选自氧化钨,氧化钼,氧化镍,及氧化铌之一种或二种以上之氧化物,之透明导电膜,该透明像素电极系与该源电极或该汲电极电性连接之薄膜电晶体型基板,及其制造方法,及使用该薄膜电晶体型基板之液晶显示装置。
申请公布号 TWI419337 申请公布日期 2013.12.11
申请号 TW100136734 申请日期 2005.03.07
申请人 出光兴产股份有限公司 日本 发明人 井上一吉;笘井重和;松原雅人
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本