| 摘要 |
提供一种显影装置，可高均一性地供给显影液至基板，抑制良品率的低下。;该显影装置系具有：基板保持部，其水平保持表面涂布有抗蚀剂且曝光后的基板；表面处理液雾化机构，其为了提高显影液对该基板的可湿润性而雾化表面处理液；第1喷雾喷嘴，其将雾化的该表面处理液喷雾至该基板；显影液流出喷嘴，其为了显影而将该显影液流出至经表面处理液喷雾后的基板。将雾化的表面处理液相较于维持液状的表面处理液，因为对基板的表面张力低，在基板上的凝集受抑制，故可轻易地供给至基板整体，因而可提高基板的可湿润性。其结果为，可将显影液高均一性地供给至基板，并可抑制良品率的低下。 |
