发明名称 下蜡制程
摘要 本发明提供之下蜡制程,首先提供以蜡层固定于载盘上的晶圆。接着融化蜡层,再自载盘上取下晶圆。上述载盘具有多个穿孔。融化蜡层的热源可为蒸汽或加热板。
申请公布号 TWI419222 申请公布日期 2013.12.11
申请号 TW100115718 申请日期 2011.05.05
申请人 隆达电子股份有限公司 新竹市科学园区工业东三路3号 发明人 赵启仲;何孝恒;杨环隆
分类号 H01L21/304;H01L33/00 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 新竹市科学园区工业东三路3号