空白遮罩、光罩以及其制造方法

摘要

本发明揭露一种空白遮罩、光罩以及其制造方法。所述空白遮罩包含依序堆叠于透明膜上之金属膜、硬遮罩膜以及抗蚀剂膜。所述金属膜或所述硬遮罩膜中之至少一者包含至少一可变组成区，其中在所述可变组成区中构成所述膜之元素中之至少一者的组成比率在所述膜之深度方向上连续改变。由此，光学密度均一性、反射率均一性、表面粗糙度、化学耐久性以及暴露耐久性与在所述深度方向上具有均一组成比率之知薄膜相比可改良，且因此生长缺陷及残余应力问题可减少。