发明名称 位置侦测设备、曝光设备及装置制造方法
摘要 一位置侦测设备包括一成像系统;一照明系统,包括一旋转台,其具有第一和第二孔径光阑,其二者可位在该照明系统的该光瞳面上;一第一影像感测器,其侦测由该成像系统所形成之该记号的该影像;一第二影像感测器,其感测用于该成像系统的该孔径光阑之一影像和该第一孔径光阑的一影像;以及一控制器。该控制器依据用于该成像系统的该孔径光阑和该第一孔径光阑的感测影像来校正该第一孔径光阑,以降低该第一孔径光阑的一位移之该不利影响。依据该记号的该影像之该侦测位置,该设备使用已通过该校正的第一孔径光阑之该照明光来侦测欲侦测之物体的该位置。
申请公布号 TWI418759 申请公布日期 2013.12.11
申请号 TW099107151 申请日期 2010.03.11
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 坂本宪稔
分类号 G01B11/00;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本