| 发明名称 | 抗指纹薄膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种抗指纹薄膜及其制备方法，抗指纹薄膜包括基材，基材表面依次沉积有厚度为15-35nm的氧化硅层、氟化物层。首先选取待加工产品作为基材，对基材表面进行清洗、除尘；然后利用磁控溅射镀膜机依次进行离子清洗、镀制氧化硅层、除尘；之后利用真空蒸发镀膜机沉积氟化物层。可使产品外观保持洁净、使指纹等脏污极易擦拭干净、增强产品表面硬度。 | ||
| 申请公布号 | CN103434203A | 申请公布日期 | 2013.12.11 |
| 申请号 | CN201310300953.5 | 申请日期 | 2013.07.17 |
| 申请人 | 北京东明兴业科技有限公司 | 发明人 | 王炜;刘茂立;王宏烈;李艳茹;孟淑文;陈世杰 |
| 分类号 | B32B9/04(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人 | 郑立明;赵镇勇 |
| 主权项 | 一种抗指纹薄膜，包括基材，其特征在于，所述基材表面依次沉积有氧化硅层、氟化物层，所述氧化硅层与氟化物层的总厚度为15‑35nm。 | ||
| 地址 | 北京市怀柔区雁栖经济开发区雁栖大街41号 | ||