发明名称 |
一种渗碳炉腔气氛控制系统 |
摘要 |
本实用新型公开了一种渗碳炉腔气氛控制系统,包括文本控制PLC,文本控制PLC分别与热电偶、氧探极、渗碳剂流量控制阀、稀释剂流量控制阀信号连接,渗碳剂流量控制阀分别与气源动力、渗碳剂脉冲油雾器管道连接,稀释剂流量控制阀分别与气源动力、稀释剂脉冲油雾器管道连接,渗碳剂脉冲油雾器分别与渗碳剂单元、渗碳剂喷嘴管道连接,稀释剂脉冲油雾器分别与稀释剂单元、稀释剂喷嘴管道连接,渗碳剂喷嘴和稀释剂喷嘴分别与渗碳炉管道连接。解决了现有人工控制滴注渗碳剂和稀释剂不够准确的问题。 |
申请公布号 |
CN203333737U |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
CN201320292121.9 |
申请日期 |
2013.05.24 |
申请人 |
陕西天洋智能科技有限公司 |
发明人 |
王小强 |
分类号 |
C23C8/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C8/44(2006.01)I |
代理机构 |
西安弘理专利事务所 61214 |
代理人 |
罗笛 |
主权项 |
一种渗碳炉腔气氛控制系统,其特征在于,包括文本控制PLC(3),文本控制PLC(3)分别与热电偶(2)、氧探极(4)、渗碳剂流量控制阀(6)、稀释剂流量控制阀(8)信号连接,渗碳剂流量控制阀(6)分别与气源动力(7)、渗碳剂脉冲油雾器(9)管道连接,稀释剂流量控制阀(8)分别与气源动力(7)、稀释剂脉冲油雾器(12)管道连接,渗碳剂脉冲油雾器(9)分别与渗碳剂单元(1)、渗碳剂喷嘴(10)管道连接,稀释剂脉冲油雾器(12)分别与稀释剂单元(5)、稀释剂喷嘴(11)管道连接,渗碳剂喷嘴(10)和稀释剂喷嘴(11)分别与渗碳炉(13)管道连接。 |
地址 |
710075 陕西省西安市高新区高新一路一品美道B区3幢1单元12504室 |