发明名称 生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片
摘要 本实用新型公开了生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片,包括生长在La0.3Sr1.7AlTaO6衬底上的GaN缓冲层,生长在GaN缓冲层上的非掺杂GaN层,生长在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜,长在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱,生长在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。本实用新型还公开了上述生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片的制备方法。本实用新型具有生长工艺简单,制备成本低廉的优点,且制备的LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,电学、光学性能好。
申请公布号 CN203339207U 申请公布日期 2013.12.11
申请号 CN201320312722.1 申请日期 2013.05.31
申请人 华南理工大学 发明人 李国强;王文樑;杨为家;刘作莲;林云昊
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 陈文姬
主权项 生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片,其特征在于,包括生长在La0.3Sr1.7AlTaO6衬底上的GaN缓冲层,生长在GaN缓冲层上的非掺杂GaN层,生长在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜,生长在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱,生长在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。
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