发明名称 |
生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片 |
摘要 |
本实用新型公开了生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片,包括生长在La0.3Sr1.7AlTaO6衬底上的GaN缓冲层,生长在GaN缓冲层上的非掺杂GaN层,生长在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜,长在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱,生长在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。本实用新型还公开了上述生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片的制备方法。本实用新型具有生长工艺简单,制备成本低廉的优点,且制备的LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,电学、光学性能好。 |
申请公布号 |
CN203339207U |
申请公布日期 |
2013.12.11 |
申请号 |
CN201320312722.1 |
申请日期 |
2013.05.31 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
李国强;王文樑;杨为家;刘作莲;林云昊 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
陈文姬 |
主权项 |
生长在铝酸锶钽镧衬底上的LED外延片,其特征在于,包括生长在La0.3Sr1.7AlTaO6衬底上的GaN缓冲层,生长在GaN缓冲层上的非掺杂GaN层,生长在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜,生长在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱,生长在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。 |
地址 |
510641 广东省广州市天河区五山路381号 |