一种灰阶掩模板

摘要

本实用新型涉及光刻技术领域，特别是一种灰阶掩模板，该灰阶掩模板包括基板；设置在所述基板上的遮光层和电致变色器件；所述遮光层上设有透光区，所述电致变色器件与所述透光区相对应设置。本实用新型通过电致变光器件可控制掩模板上透光区的光透过率，从而满足光刻工艺中不同的透光率要求，节省了曝光工艺的加工成本；而且，在制作工艺中，无需二次曝光对位处理，避免在二次曝光对位处理中出现较大的位置偏差的问题；本实用新型可通过电致变色器件获得不同的光透过率，可在曝光工艺中，对工艺的调整更加灵活、方便，更易于获得更优化的结构设计。

主权项

一种灰阶掩模板，其特征在于，包括：基板；设置在所述基板上的遮光层和电致变色器件；所述遮光层上设有透光区，所述电致变色器件用于控制所述遮光层上透光区的光透过率。