发明名称 将至少一种介质涂布到至少一种基底上的设备和可重复地确定所述设备的至少一个第一滚筒的旋转角位置的方法
摘要 本发明涉及一种用于将介质涂布到基体上的设备,其中,所述设备具有能够旋转的至少一个滚筒和框架,所述至少一个滚筒被设置为能够围绕转轴相对于所述框架旋转且所述设备具有旋转角检测装置,所述旋转角检测装置至少部分地设置和/或能够设置在相对于所述至少一个滚筒的基准旋转角位置中且同时设置和/或能够设置在相对于所述框架的基准位置中,所述旋转角检测装置被设置成与至少一个基准标记配合或能够与至少一个基准标记配合且被实施为能够无接触地检测所述至少一个第一滚筒的旋转角位置,所述旋转角检测装置具有至少一个发射器,所述至少一个发射器被设置成,关于至少一个发射方向对准平行于转轴延伸的、所述至少一个滚筒的辊身的外表面,本发明还涉及一种可重复地确定至少一个滚筒的旋转角位置的方法。
申请公布号 CN103442893A 申请公布日期 2013.12.11
申请号 CN201280014873.7 申请日期 2012.03.21
申请人 KBA金属印刷有限公司 发明人 约阿希姆·洛夫勒
分类号 B41F33/02(2006.01)I 主分类号 B41F33/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘晓峰
主权项 一种用于将至少一种介质涂布到至少一种基底上的设备(01),其中,所述设备(01)具有能够旋转的至少一个第一滚筒(02)和至少一个框架,所述至少一个第一滚筒(02)被设置为能够围绕转轴(18)相对于所述至少一个框架旋转且所述设备(01)具有至少一个旋转角检测装置,所述旋转角检测装置至少部分地设置和/或能够设置在相对于所述至少一个第一滚筒(02)的至少一个基准旋转角位置中且同时设置和/或能够设置在相对于所述至少一个框架的基准位置中,所述旋转角检测装置被设置成与至少一个基准标记(23)配合或能够与至少一个基准标记(23)配合且被实施为能够无接触地检测所述至少一个第一滚筒(02)的旋转角位置,其特征在于,所述旋转角检测装置具有至少一个发射器(08),所述至少一个发射器被设置成,关于至少一个发射方向对准平行于所述至少一个第一滚筒(02)的转轴(18)延伸的、所述至少一个第一滚筒(02)的辊身(19)的外表面。
地址 德国斯图加特