无弧斑的真空电弧离子镀膜方法

摘要

一种无弧斑的真空电弧离子镀膜技术，将无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源安装在真空度为10-10-3Pa的真空镀膜室内，配置大直流电流弧电源，一般可达2000A，通电后，在这种大电流加热条件下，使阴极区从有斑冷阴极电弧向无斑热阴极扩散型电弧转化，产生无液滴、高电离度、高密度的金属蒸气等离子体射向阴极对面的工件，可实现离子镀膜。

主权项

一种无弧斑的真空电弧离子镀膜方法，其特征是以无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源，作为被镀工件的镀料供给源，将它安置在真空度为10‑10‑3Pa的真空镀膜室内，室的内壁作为无弧斑真空电弧的阳极，也可在真空室内专设一辅助阳极，可将此辅助阳极与室内壁相连接，共同作为阳极，也可不连接，内壁不作阳极，上述镀料供给源作为无弧斑真空电弧的阴极，该阴极通常是具有圆形断面的圆柱形阴极，也可以用任意形断面的阴极，也可以用盛于坩埚内的液态阴极，配置大直流电流电源，达2000A，通电后，在这种大电流加热条件下，使阴极区从有斑冷阴极电弧向无斑热阴极扩散型电弧转化，无弧斑的真空电弧阴极所产生的无液滴、高电离度、高密度的金属蒸汽等离子体射向阴极对面的工件，而在工件上施加负偏置电压，则实现了符合离子镀定义的规范的离子镀膜过程。