| 发明名称 | 成像设备及其框架单元 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成像设备及其框架单元，所述成像设备包括：图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路。颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。 | ||
| 申请公布号 | CN101515125B | 申请公布日期 | 2013.12.11 |
| 申请号 | CN200810168037.X | 申请日期 | 2008.09.25 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金钟仁;白明洙;金成起;张皓轸 |
| 分类号 | G03G15/00(2006.01)I;G03G21/10(2006.01)I;G03G21/12(2006.01)I;G03G21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 杨静;韩明星 |
| 主权项 | 一种成像设备，包括：图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路，框架单元，具有设置在光路上的光窗，其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元、颗粒挡板和侧构件，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中，颗粒挡板设置在颗粒储存单元和光路之间，侧构件阻挡光路的侧部，其中，框架单元包括：主框架和用于覆盖主框架的框架盖，光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述框架盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，颗粒储存单元形成在第二光传播孔的附近。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||