| 发明名称 | 光刻用清洗液以及使用了其的图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供可改良图案倒塌、表面粗糙度以及表面缺陷的光刻用清洗液和使用了其的图案形成方法。一种光刻用清洗液、以及使用了其的图案形成方法，所述光刻用清洗液至少包含磺酸、具有亚烷基氧基的非离子性表面活性剂以及水。 | ||
| 申请公布号 | CN103443710A | 申请公布日期 | 2013.12.11 |
| 申请号 | CN201280013435.9 | 申请日期 | 2012.03.22 |
| 申请人 | AZ电子材料IP(日本)株式会社 | 发明人 | 王晓伟;G·鲍洛斯基;松浦裕里子 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 一种光刻用清洗液，其特征在于，其至少包含磺酸、具有亚烷基氧基的非离子性表面活性剂以及水。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||