反应腔室

摘要

本发明提供了一种反应腔室，包括：反应室、喷淋头、托盘、抽气装置和限流环；其中，所述喷淋头、托盘、抽气装置和限流环均设置于所述反应室的内部；所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘之间形成气流；所述喷淋头中靠近所述托盘的一侧设置有聚气环，所述聚气环使得喷淋头喷出的气流聚集喷向所述托盘；所述抽气装置使得所述气流从所述托盘的周围排出；所述托盘的周围设置有限流环，所述限流环高出所述托盘的上表面，且所述限流环的内径大于所述聚气环的内径。在本发明提供的反应腔室中，在托盘的周围增设了限流环，以降低托盘边缘区域的气流流速，从而提高了气流分布的均匀性，进一步使得CVD沉积的均匀性得以提高。

主权项

一种反应腔室，其特征在于，包括：反应室、喷淋头、托盘、抽气装置和限流环；其中，所述喷淋头、托盘、抽气装置和限流环均设置于所述反应室的内部；所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘之间形成气流；所述喷淋头中靠近所述托盘的一侧设置有聚气环，所述聚气环使得喷淋头喷出的气流聚集喷向所述托盘；所述抽气装置使得所述气流从所述托盘的周围排出；所述托盘的周围设置有限流环，所述限流环高出所述托盘的上表面，且所述限流环的内径大于所述聚气环的内径。