发明名称 | 石墨烯的低折射率差波导调制器及制备方法 | ||
摘要 | 一种石墨烯电吸收低折射率差波导调制器,包括:一衬底;一下包层,其制作在衬底上;一波导芯层,其制作在下包层上的中间部位,形成脊形结构;一ITO透明电极,其制作在波导芯层上及两侧,并覆盖暴露的下包层的上表面;一下绝缘介质层,其制作在ITO下电极的表面,该脊形结构的一侧,该绝缘介质层为断开状,形成一窗口;一单层石墨烯薄膜,其制作在下绝缘介质层上;一金属电极,其制作在脊形结构一侧,远离窗口的另一侧的单层石墨烯薄膜上,该金属电极与脊形结构有一预定距离,该距离大于800nm;一上绝缘介质层,其制作在脊形结构上的单层石墨烯薄膜上;一高折射率氧化硅层,其制作在上绝缘介质层上。本发明具有体积小、调制带宽宽、插入损耗小和制备工艺简单的优点。 | ||
申请公布号 | CN103439807A | 申请公布日期 | 2013.12.11 |
申请号 | CN201310380432.5 | 申请日期 | 2013.08.28 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 尹伟红;韩勤;杨晓红;李彬;崔荣;吕倩倩 |
分类号 | G02F1/025(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/025(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汤保平 |
主权项 | 一种石墨烯电吸收低折射率差波导调制器,包括:一衬底;一下包层,其制作在衬底上;一波导芯层,其制作在下包层上的中间部位,形成脊形结构;一ITO透明电极,其制作在波导芯层上及两侧,并覆盖暴露的下包层的上表面;一下绝缘介质层,其制作在ITO下电极的表面,该脊形结构的一侧,该绝缘介质层为断开状,形成一窗口;一单层石墨烯薄膜,其制作在下绝缘介质层上;一金属电极,其制作在脊形结构一侧,远离窗口的另一侧的单层石墨烯薄膜上,该金属电极与脊形结构有一预定距离,该距离大于800nm;一上绝缘介质层,其制作在脊形结构上的单层石墨烯薄膜上;一高折射率氧化硅层,其制作在上绝缘介质层上。 | ||
地址 | 100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |