发明名称 喷淋头以及气相沉积反应腔
摘要 本发明揭示了一种用于气相沉积反应腔的喷淋头,所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头包括依次层叠设置的第一源气体腔、冷却腔和第二源气体腔,所述第二源气体腔邻近所述反应区域设置,所述第一源气体腔和所述第二源气体腔分别与所述反应区域连通;所述第一源气体腔与至少一第一气管连通,所述第一气管穿过所述冷却腔和第二源气体腔,并连通所述反应区域;所述第一气管至少位于所述第二源气体腔内的部分的外壁设置有隔热层。本发明的喷淋头能够减少所述第一反应气体和第二反应气体之间热交换,减少第一反应气体和第二反应气体之间的温度相互影响,有利于第一反应气体和第二反应气体对不同温度条件的要求。
申请公布号 CN103436859A 申请公布日期 2013.12.11
申请号 CN201310360284.0 申请日期 2013.08.16
申请人 光垒光电科技(上海)有限公司 发明人 谭华强;黄允文;乔徽;林翔;苏育家
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种用于气相沉积的反应腔的喷淋头,所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头包括依次层叠设置的第一源气体腔、冷却腔和第二源气体腔,所述第二源气体腔邻近所述反应区域设置,所述第一源气体腔和所述第二源气体腔分别与所述反应区域连通,所述第一源气体腔和所述第二源气体腔分别用于向所述反应区域通入第一反应气体和第二反应气体;其中,所述第一源气体腔与至少一第一气管连通,所述第一气管穿过所述冷却腔和所述第二源气体腔,并连通所述反应区域;其特征在于:所述第一气管至少位于所述第二源气体腔内的部分的外壁设置有隔热层。
地址 200050 上海市长宁区延安西路889号1106B室
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