正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

摘要

本发明提供一种含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分(A)和利用曝光产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A)含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物(a)中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物(A1)，而且，所述化合物(A1)的每一分子保护数(个)的标准差(σn)不到1或者每一分子的保护率(摩尔％)的标准差(σp)不到16.7。

主权项

1.一种正型抗蚀剂组合物，其是含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分A、和利用曝光产生酸的产酸剂成分B的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分A含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物a中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物A1，所述基材成分A中所述化合物A1的比例是100质量％，所述化合物A1的每一分子的保护率平均值为7～45摩尔％，并且所述化合物A1的每一分子的保护个数的标准差σ_n不到1，所述多元酚化合物a为下述通式(I)表示的化合物，[化1]式(I)中，R₁₁～R₁₇分别独立地表示碳原子数为1～10的烷基；g、j分别独立地为1以上的整数，k、q为0或1以上的整数，而且g+j+k+q为5以下；h为1以上的整数，l、m分别独立地为0或1以上的整数，而且h+l+m为4以下；i为1以上的整数，n、o分别独立地为0或1以上的整数，而且i+n+o为4以下；p为1；X为下述通式(Ia)或(Ib)表示的基团，[化2]式(Ia)中，R₁₈、R₁₉分别独立地表示碳原子数为1～10的烷基或者芳香族烃基，其结构中也可以含有杂原子；r、y、z分别独立地为0或1以上的整数，而且r+y+z为4以下。