| 摘要 |
1. Способ изготовления экспонированных голографических сред, содержащих фотополимерную композицию с модулем Gв пределах от 0,1 до 160 МПа и Δn≥0,008, при реализации которогоi. готовят фотополимерную композицию, включающую в себяA) Полимеры матрицы в виде аморфной сетчатой структуры,B) комбинацию одного монофункционального записывающего мономера и одного мультифункционального записывающего мономера,C) фотоинициирующую систему,D) в качестве опции компонент, неспособный к фотополимеризации,Е) при необходимости катализаторы, стабилизаторы радикалов, растворители, присадки, а также прочие вспомогательные и/или дополнительные веществаii. придают фотополимерной композиции форму среды,iii. проводят над средами эксперимент по голографической экспозиции, чтобы записать голограмму, иiv. освещают всю среду УФ-излучением, чтобы зафиксировать голограммупричем записывающие мономеры представляют собой соединения с акрилатными и/или метакрилатными функциональными группами, общее содержание записывающих мономеров в фотополимерной композиции составляет не менее 30% масс. и не более 45% масс., неэкспонированная фотополимерная композиция имеет модуль G<0,7 МПа, а модуль Gэкспонированной композиции через отношение относительной доли монофункционального записывающего мономера к относительной доле мультифункционального записывающего мономера в общем содержании записывающих мономеров регулируют в предусмотренной области от 0,1 до 160 МПа таким образом, что высокий модуль обеспечивают посредством высокой относительной доли мультифункционального записывающего мономера, а низкий модуль - посредством высокой относительной доли мон� |
