包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统

摘要

本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件（16）与器件（30）之间间隙（246）中环境的环境系统（26）包括流体屏障（254）和沉浸流体系统（252）。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。

主权项

一种用于控制光学组件与器件之间间隙中的环境的环境系统，该器件由器件载物台保持，该环境系统包括：位于器件附近的流体屏障；以及沉浸流体系统，其输送充满间隙的沉浸流体，并且收集直接位于流体屏障与器件和器件载物台中至少一个之间的沉浸流体。