| 发明名称 | 具有双离子源的离子注入机 | ||
| 摘要 | 本实用新型提出一种具有双离子源的离子注入机，包括：两个离子源，每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀；一偏转磁场分析器；以及一连接管道，所述连接管道具有第一端、第二端和第三端，所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场，所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端，所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端，用以解决当离子源拆卸下来进行维护时，做到离子注入机运行维护两不误的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN203325833U | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
| 申请号 | CN201320316059.2 | 申请日期 | 2013.06.03 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 丁杰;严骏;裴雷洪 |
| 分类号 | H01J37/317(2006.01)I;H01J37/08(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/317(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 陆花 |
| 主权项 | 一种具有双离子源的离子注入机，其特征在于，包括：两个离子源，每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀；一偏转磁场分析器；以及一连接管道，所述连接管道具有第一端、第二端和第三端，所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场，所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端，所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 | ||