| 发明名称 | 包含表面活性剂的能稀释的化学机械抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包含如下物质的抛光组合物：研磨剂、含水介质、其量高于其临界胶束浓度的表面活性剂、以及疏水性表面活性化合物。本发明还提供使用抛光组合物的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101622326B | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
| 申请号 | CN200880006408.2 | 申请日期 | 2008.02.22 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 弗朗西斯科·德雷格西索罗;贾森·凯莱赫 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种使用抛光组合物的方法，该方法包括：(i)提供包含以下物质的抛光组合物：(a)研磨剂，其中该研磨剂以该抛光组合物的18重量％或更高的量存在，(b)含水介质，(c)表面活性剂，其中该表面活性剂包含磺酸根基团且以高于其临界胶束浓度的量存在，及(d)疏水性表面活性化合物，和(ii)稀释该抛光组合物，其中在使基板与该抛光组合物接触之前稀释该抛光组合物使表面活性剂的量低于其临界胶束浓度。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||