一种半导体制程中的设备监控方法

摘要

本发明公开了一种半导体制程中的设备监控方法，其中，包括如下步骤：步骤a、于半导体制程开始前制定一固定样本数量的抽样方案；步骤b、于工艺步骤开始前根据所述抽样方案确定哪些晶圆需要被抽样，哪些晶圆无需被抽样，将需要被抽样的晶圆平均的分配到每台工艺设备；步骤c、执行工艺步骤；步骤d、以所述抽样方案抽样，根据所述抽样的结果，对所述被抽样的晶圆进行在线检测；步骤e、重复步骤b至步骤d直至所有工艺步骤执行完毕；步骤f、对所有晶圆进行电气性能检测。本发明的有益效果是：通过抽样方案和动态风险标志配合，使半导体制程中的潜在风险最小化。

主权项

一种半导体制程中的设备监控方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤a、于半导体制程开始前制定一固定样本数量的抽样方案；步骤b、于工艺步骤开始前根据所述抽样方案确定哪些晶圆需要被抽样，哪些晶圆无需被抽样，将需要被抽样的晶圆平均的分配到每台工艺设备；步骤c、执行工艺步骤；步骤d、以所述抽样方案抽样，根据所述抽样的结果，对所述被抽样的晶圆进行在线检测；步骤e、重复步骤b至步骤d直至所有工艺步骤执行完毕；步骤f、对所有晶圆进行电气性能检测；其中，所述抽样方案随所述工艺步骤变化而变化，且平均的将抽样批次分配到每一台工艺设备，使每一台工艺设备在完成工艺步骤后都有晶圆被抽样到，使工艺设备不会脱离在线监测的监控；其中，还包括风险标志分配系统和风险标志，所述风险标志分配系统按预定规则将所述风险标志分配予所述晶圆，所述抽样方案使带有所述风险标志的晶圆被抽样，当抽样进行时，所述抽样方案判断到带有所述风险标志的晶圆及对其进行抽样。