发明名称 | 超声清洁方法和超声清洁装置 | ||
摘要 | 本发明的主题提供了超声清洁方法和超声清洁装置,通过所述方法和设备以稳定的方式得到高颗粒去除率。解决问题的手段是一种超声清洁方法,所述方法用于通过用超声波辐照液体而在所述液体中清洁待清洁的物体,所述液体中溶解有气体,所述方法包括以下步骤:制备溶解有气体的液体(S10)。用超声波辐照液体的同时在液体中产生气泡,并且实现连续产生含有溶解在液体中的气体的气泡的状态(S20)。在连续产生含有气体的气泡的状态中清洁待清洁的物体(S30)。 | ||
申请公布号 | CN103418573A | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
申请号 | CN201310188703.7 | 申请日期 | 2013.05.21 |
申请人 | 硅电子股份公司 | 发明人 | 久保悦子;榛原照男;森良弘;内部真佐志 |
分类号 | B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 谭邦会 |
主权项 | 一种超声清洁方法,用于在溶解有第一气体的液体中清洁待清洁的物体(W),所述方法用超声波辐照所述液体,并包括以下步骤:‑制备溶解有所述第一气体的所述液体;‑在用超声波辐照所述液体的同时,将第二气体(G)引入所述液体中,以及实现含有溶解在所述液体中的所述第一气体的气泡连续产生的状态;和在含有所述第一气体的气泡连续产生的状态中清洁所述待清洁的物体(W)。 | ||
地址 | 德国慕尼黑 |