发明名称 |
感光性导电糊剂和导电图案的制造方法 |
摘要 |
感光性导电糊剂,其包含具有羧酸的化合物或其酸酐(A)、具有不饱和键且酸值处于40~200mgKOH/g的范围内的感光性成分(B)、光聚合引发剂(C)以及导电性填料(D)。导电图案的制造方法,其中,将该感光性导电糊剂涂布在基板上,进行干燥、曝光、显影后,在100℃以上且300℃以下的温度下进行固化。提供即使在低温固化条件下也能够获得电阻率低的导电图案的感光性导电糊剂和使用该感光性导电糊剂制作的导电图案的制造方法。 |
申请公布号 |
CN103430097A |
申请公布日期 |
2013.12.04 |
申请号 |
CN201280013251.2 |
申请日期 |
2012.02.21 |
申请人 |
东丽株式会社 |
发明人 |
水口创;草野一孝 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;H01B1/22(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H05K1/09(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
蔡晓菡;孟慧岚 |
主权项 |
感光性导电糊剂,其包含二羧酸或其酸酐(A)、具有不饱和双键且酸值在40~200mgKOH/g的范围内的感光性成分(B)、光聚合引发剂(C)以及导电性填料(D)。 |
地址 |
日本东京都 |