发明名称 |
包括金属检验质量块和压电组件的微机电系统设备 |
摘要 |
本公开提供了用于机电系统的系统、装置以及制造方法。在一个实施方式中,一种装置包括金属检验质量块和压电组件以作为MEMS设备的一部分。这样的装置对于MEMS陀螺仪设备可以是特别有用的。例如,可以具有数倍于硅的密度的金属检验质量块能够减少MEMS陀螺仪设备中的正交和偏移误差,并且能够增加MEMS陀螺仪设备的灵敏度。 |
申请公布号 |
CN103430340A |
申请公布日期 |
2013.12.04 |
申请号 |
CN201280013178.9 |
申请日期 |
2012.03.09 |
申请人 |
高通MEMS科技公司 |
发明人 |
J·P·布莱克;S·K·加纳帕斯;P·J·史蒂芬诺;K·E·彼得森;C·阿卡;R·V·夏诺伊;N·I·布坎南 |
分类号 |
H01L41/08(2006.01)I;H01L41/113(2006.01)I;B81B5/00(2006.01)I;G01C19/56(2012.01)I;B81B7/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L41/08(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
蔡悦 |
主权项 |
一种装置,包括:金属层;部署在所述金属层上的第一介电层;部署在所述第一介电层上的第一电极层;部署在所述第一电极层上的压电层,所述压电层被配置为响应于电场或机械力中的至少一个;部署在所述压电层上的第二电极层,所述第一电极层和所述第二电极层被配置为施加跨所述压电层的电场或者感测由于所述机械力而由所述压电层生成的电场;以及部署在所述第二电极层上的第二介电层。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |