一种用于真空处理装置的载置台

摘要

本发明提供一种真空处理装置的载置台，包括基座和转轴，该基座的下表面中心设有一第一凹槽；该转轴至少包括一连接端，该连接端与该第一凹槽相匹配，使该转轴能够插入该第一凹槽；该载置台还包括至少一个凹入该第一凹槽的该第二凹槽、与该第二凹槽数量相同且凹入该连接端端面的第三凹槽、与该第三凹槽数量相同的锁舌以及控制单元；每个锁舌分别设置于第三凹槽内，并具有一个与第二凹槽的侧壁相贴合的表面，用于带动基座同步转动；控制单元接收转轴的转动或停止状态信号，控制锁舌伸出并进入第二凹槽内，或控制锁舌缩回第三凹槽。

主权项

一种真空处理装置的载置台，包括：基座，所述基座的下表面中心设有一第一凹槽；转轴，所述转轴至少包括一连接端，所述连接端与所述第一凹槽相匹配，使所述转轴能够插入所述第一凹槽；其特征在于，还包括：至少一个凹入所述第一凹槽的所述第二凹槽；与所述第二凹槽数量相同且凹入所述连接端端面的第三凹槽；与所述第三凹槽数量相同的锁舌，每个所述锁舌分别设置于所述第三凹槽内，并具有一个与第二凹槽的侧壁相贴合的表面，用于带动所述基座同步转动；控制单元，接收所述转轴的转动或停止状态信号，控制所述锁舌伸出并进入所述第二凹槽内，或控制所述锁舌缩回所述第三凹槽。