发明名称 一种用于半导体厂房的洁净室
摘要 本实用新型公开了一种用于半导体厂房的洁净室,包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间,所述大型洁净空间内具有走道和至少一条生产走道;所述走道和所有生产走道的四周围设有隔板,使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间,以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构;所述走道的内围设有第二隔板,第二隔板设于所述隔板的内侧,隔板和第二隔板之间的天花板镂空,使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道。本实用新型在走道和所有生产走道的四周围设有隔板,构成独立的洁净微环境结构,从而避免了上述腐蚀性气体对走道和生产走道内的储存仓及产品的影响。
申请公布号 CN203320997U 申请公布日期 2013.12.04
申请号 CN201320012791.0 申请日期 2013.01.10
申请人 亚翔系统集成科技(苏州)股份有限公司 发明人 杨政谕
分类号 E04H5/02(2006.01)I;E04H1/12(2006.01)I 主分类号 E04H5/02(2006.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人 陶海锋;陆金星
主权项 一种用于半导体厂房的洁净室,包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间,所述大型洁净空间内具有中央走道(1)和至少一条生产走道(2);所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6),架构空间和洁净空间之间设有天花板(7),洁净空间和循环空间之间设有高架地板(10)和混凝土板(11);其特征在于:所述中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板(8),使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间,以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构;所述洁净微环境的底部设有下密封板(12),其顶部设有上密封板(13);所述中央走道的内围设有第二隔板(19),第二隔板设于所述隔板的内侧,隔板和第二隔板之间的天花板镂空,使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道(18);所述各个生产走道的天花板下设有至少一个通风管(20),构成洁净微环境结构的回风通道;连接管的顶端设于天花板上并与所述架构空间连通,其尾端位于洁净微环境结构的洁净空间内;所述隔板的底部设有气体调节风门(14);所述洁净微环境结构内设有化学过滤器(16);所述洁净微环境的顶部设有第二新风输送系统(17),使所述独立的洁净微环境结构中的气压大于其外部的大型洁净空间中的气压。
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