发明名称 |
立体光掩模及其制造方法以及立体表面图案化制作方法 |
摘要 |
本发明公开一种立体光掩模、此立体光掩模的制造方法以及使用此立体光掩模的立体表面图案化制作方法。立体光掩模供对物件曝光时使用。其中,物件具有立体曝光面。立体光掩模包含立体图案面以及图案单元。立体图案面具有固定以立体曝光面互补的立体形状,并可与立体曝光面相嵌合。图案单元形成于立体图案面。立体表面图案化制作工艺方法包含:提供具有立体曝光面的物件,立体曝光面覆盖有光致抗蚀剂层;提供上述立体光掩模;将立体光掩模设置于光致抗蚀剂层上,且使立体图案面与立体曝光面相嵌合;以及使用立体光掩模,对光致抗蚀剂层进行曝光。 |
申请公布号 |
CN103424992A |
申请公布日期 |
2013.12.04 |
申请号 |
CN201210158514.0 |
申请日期 |
2012.05.21 |
申请人 |
启碁科技股份有限公司 |
发明人 |
许馨卉;张胜杰;黄宝毅 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F1/76(2012.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种立体光掩模,供对一物件曝光时使用,其中该物件具有一立体曝光面,该立体光掩模包含:立体图案面,具有固定且与该立体曝光面互补的立体形状,以与该立体曝光面相嵌合;以及图案单元,形成于该立体图案面。 |
地址 |
中国台湾新竹科学园区 |