| 摘要 |
于真空状态的成膜室(11)内，与基板(12)相对向地配置有具有多个蒸镀喷嘴(15)的分散容器(14)，于该分散容器(14)中贯通设置有检测喷嘴(32)，并且与检测喷嘴(32)相对向地配置蒸镀速度检测元件(33)，且设置蒸镀速度调整机构(34)，其使蒸镀速度检测元件(33)接近或远离检测喷嘴(32)的放出口(32a)，对应于相对于基板(12)的蒸镀速度而对检测喷嘴(32)的放出口(32a)与蒸镀速度检测元件(33)的距离(L)进行调整，藉此，由蒸镀速度检测元件(33)精度良好地对蒸镀速度进行检测。 |
