曝光装置及元件制造方法

摘要

为提供一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，系在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光者，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)之性质及成分至少一方。