| 摘要 |
本发明系关于一种含有由一般式(1a)、(1b)、(2a)及(2b)所示重复单位所构成之高分子化合物(PA)的光阻材料。;(1a) (1b) (2a) (2b);(R1a及R1b为氢原子、或烷基，R1a与R1b结合并与彼等所结合之碳原子共同可形成非芳香环。R2为氢原子、甲基或三氟代甲基。R3为氢原子或酸不安定基。R4a～R4c为氢原子或烷基。R5为烷基。0<a1<1、0≦a2<1、0≦b1<1、0≦b2<1、0<a1+a2<1、0<b1+b2<1、0<a1+a2+b1+b2≦1)。;使用高分子化合物(PA)之光阻材料于湿浸式微影技术(Immersion Lithography)中之拨水性与滑水性优良，可实现显像缺陷较少的良好微影术性能。 |
