发明名称 改善钨沉积拓朴形貌之微机电系统光罩与方法
摘要 本发明揭示一种改善钨沉积拓朴形貌之微机电系统光罩,包含:交会图案,其由至少两不小于最小设计线宽之线段交会形成,且于该交会处的转角,形成由该转角处向该交会处的中心点延伸,使该交会处宽度相对小的凹入图案,其中,该光罩所定义之线段系用以制作沟槽,以供沉积填入钨而构成微机电系统的一部份,且所填入的钨表面最低高度不低于沟槽表面高度的80%。
申请公布号 TWI417646 申请公布日期 2013.12.01
申请号 TW099109470 申请日期 2010.03.29
申请人 原相科技股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区创新一路5号5楼 发明人 徐新惠;王传蔚;李昇达;吕志宏
分类号 G03F1/00;B81C1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 任秀妍 新竹市光复路2段481号9楼
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区创新一路5号5楼