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发明名称
曝光装置及曝光方法
摘要
本发明提供一种不会产生垃圾或者尘埃,可以高精度地将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。曝光装置(100)具有使送出被曝光体(T)的供给盘旋转的供给盘旋转部(61)、引导由该供给盘旋转部旋转而从供给盘送出的被曝光体的导向辊(63)、为了沿着曝光台搬送来自导向辊的被曝光体而设置在该曝光台两侧的第一搬送辊(64)以及第二搬送辊(66)、配置在导向辊和第一搬送辊之间,在被曝光体上描绘用于与电路图案掩膜(M)进行对位元的校准标记(AM)的校准标记描绘部(30)。
申请公布号
TWI417684
申请公布日期
2013.12.01
申请号
TW097120734
申请日期
2008.06.04
申请人
奥克制作所股份有限公司 日本
发明人
佐藤仁;山贺胜
分类号
G03F9/00;G03B27/32;H05K3/02
主分类号
G03F9/00
代理机构
代理人
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址
日本
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